<noframes id="bfd33">

<form id="bfd33"></form>

<span id="bfd33"><th id="bfd33"><track id="bfd33"></track></th></span>
    <form id="bfd33"><th id="bfd33"><progress id="bfd33"></progress></th></form>
        <form id="bfd33"><th id="bfd33"></th></form>

        <noframes id="bfd33">
        Ooops!好像您正在使用古老的瀏覽器
        為了得到我們網站最好的體驗效果,我們建議您升級到最新版本的Internet Explorer,或選擇其它推薦瀏覽器
        中文版 / ENGLISH
        中文版 / ENGLISH
        拓荊公司自主研制的國內首臺12英寸PE-ALD設備通過客戶驗收
        2021.04.12

        2018年9月底,由沈陽拓荊科技有限公司自主研制的12英寸原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)設備FT-300T通過了客戶的驗收。

          ALD設備是集成電路制備過程中關鍵的薄膜沉積設備,被視為先進半導體工藝技術發展的關鍵環節之一。拓荊公司基于已通過生產驗證的高產能PECVD設備平臺,成功研制了國內首臺量產型12英寸ALD設備FT-300T,并迅速推向市場,可應用于28nm以下極大規模集成電路,OLED及先進封裝(TSV)領域,投入28/14nm先進生產線,用于沉積SiO2,SiNx等絕緣薄膜。該設備已成功進入試生產線考核驗證,歷時3個多月,通過了客戶的考核驗收,設備各項性能指標均滿足要求,且達到或超過了國際同類產品的先進水平,這是我國在實現半導體高端裝備國產化進程中的又一重大突破。

        ©2021 拓荊科技股份有限公司 遼ICP備05007152號-1

        技術支持:優諾科技

        南方双彩